1、微电子工艺原理与技术 李 金 华 1 第二篇 单项工艺1 华山风光 2 第四章 离子注入 3 主要内容 1. 什么是离子注入？ 2. 离子注入机的结构原理； 3. 注入离子与衬底原子的相互作用； 4. 垂直投影射程及标准偏差； 5. 注入损伤及退火恢复； 6. 离子注入浅结的形成； 7. SOI埋成的离子注入合成； 8. 问题和关注点-沾污和均匀性； 9. 理论模拟。 4 1.什么是离子注入？ 离子束把固体材料的原子或分子撞出固体材料表面 ，这个现象叫做溅射；而当离子束射到固体材料时， 从固体材料表面弹了回来，或者穿出固体材料而去， 这些现象叫做散射；另外有一种现象是，离子束射到 固体材料以后
2、，离子束与材料中的原子或分子将发生 一系列物理的和化学的相互作用，入射离子逐渐损失 能量，最后停留在材料中，并引起材料表面成分、结 构和性能发生变化，这一现象就叫做离子注入。 离 子注入可分为半导体离子注入（掺杂）、材料改性注 入（金属离子注入）和新材料合成注入。 5 离子注入工艺的特点 1.低温工艺 2.注入剂量可精确控制 3.注入深度可控 4.不受固溶度限制 5.半导体掺杂注入需要退火以激 活杂质和消除损伤 6.材料改性注入可不退火引入亚稳态获得特殊性能 7.无公害技术 8.可完成各种复合掺杂 6 离子注入的应用 1.P阱或N阱注入 10E12/cm2 2.阈值调整注入 10E11/cm2
3、 3.场注入 10E12/cm2 4.源漏注入 10E15/cm2 5.隔离注入 10E15/cm2 6.基区注入 10E12/cm2 7.发射、收集区注入 10E15/cm2 8.智能剥离氢注入 10E16/cm2 9.材料改性注入 10E16/cm2 10. SOI埋层注入 10E17-10E18/cm2 7 2.离子注入机的结构原理 离子注入机主要由以下几部分组成： 1. 离子源 在起弧室内产生等离子体 2. 离子吸出系统 从源内引出离子束 3. 磁分析系统 从引出离子束中偏析出所需注入束 4. 加速系统 对注入离子束加速获得所需能量 5. 聚焦、扫描、偏转系统 调控注入离子束 6. 法
4、拉第电荷计量系统 测控注入离子剂量 7. 装片、注入、出片系统 完成离子注入工艺 8. 真空系统 使束通道达到10-3-10-5Pa的真空度 9. 冷却系统 对离子源、分析腔、注入靶等冷却 8 先加速后分析注入机结构示意 9 离子注入系统的原理示意图 10 国产中束流离子注入机 11 20-80KeV 400-500W/h Vll Sta 810XEr 中束流注入机 12 Vll Sta 80HP 300mm 大束流注入机 1-80KeV FOR 90nm IC process 13 高能P阱注入机 2keV - 900keV VIISta 900XP 高能注入机 14 国产多功能离子改性注入
5、机 无分析器 气体 金属 辅助 溅射 四种离子源 15 全方位离子注入 16 离子源的种类 1.潘宁源 在阴极-阳极间起弧电离源气分子，获得等 离子体，适合小束流气体离子注入 2.热灯丝源（Freeman源） 靠灯丝发射电子激发等离子 体，适合无氧气体离子的中小束流注入 3.溅射源 对Ar离子溅射出的金属离子起弧电离，获得 等离子体，适合小束流高熔点金属离子注入 4.蒸发源 对金属蒸汽起弧电离形成等离子体，适合低 熔点金属离子注入 5. MEVVA源（金属蒸汽真空弧离子源）新型的强流金属 离子源，适合材料改性的无分析注入 17 大束流离子源（160XP）中束流离子源（CF-3000） Vari
6、an 注入机离子源 18 Eaton注入机 离子源 大束流离子源（8-10mA） 中束流离子源（NV-6200） 19 蒸发离子源的结构 20 磁分析器原理 设吸出电压为V，对电荷q的正离子，能量为qV(eV)。 经过磁场强度为B、方向与离子运动方向垂直的分析腔 ，受到洛仑兹力qvB，该力使离子作圆周运动。有： 可见，偏转半径r与B成反比，与m成正比。对固定的离 子注入机，分析器半径r和吸出电压固定，调节B的大小 （励磁电流）即可分析出不同荷质比的离子。21 BF3气源磁分析质谱 22 注意： 同一荷质比的离子有相同的偏转半径，磁分析 器无法作出区分。要求源气有很高的纯度，尽量避免相 同荷质比
7、离子出现。如：N2+ 和Si+，N+ 和Si+ ，H2+ 和He+等。 磁分析器的分辨率 影响分辨率的还有： 1.吸出前源内离子的能量分散 对几keV的吸出电压， 10eV左右的分散度可以忽略。 2.分析腔的出口宽度 分析腔的出口宽度实际上改变 了出射离子的半径，从而改变了荷质比。 23 对质量为m的离子，偏转半径为R，当质量为m+m的离 子，进入磁分析器后，离子束将产生的位移距离为： 当D大于束的宽度 加上出口狭缝的宽 度，就称两种质量 离子能分。通常采 用 =90磁铁，R 在1m左右。R大、 M小时分辨率高。 24 离子束的加速和扫描 对先加速后分析系统，由于待分析离子的能量高，要求 分析
8、器有很大的半径。通常采用先分析后加速结构。加速 系统使离子获得需要的注入能量。 为了获得均匀的掺杂，常把注入束聚焦，并扫描，中、 小束流离子注入机X和Y方向都采用电扫描，大束流注入 机则采用混合扫描。大束流材料改性离子注入机采用无分 析系统，吸出离子束不聚焦，面积很大（直径在150mm- 200mm），没有扫描和偏转系统，采用靶台转动来提高 均匀性。对全方位离子注入机，样品的周围全部由等离子 体包围，适当转动样品使注入均匀性提高。 25 全电扫描和混合扫描系统示意 全电 扫描 混合 扫描 26 离子束的偏转 离子在注入到硅片前，一般需要作二次偏转，目的是： 1.去除中性原子 在离子束的传输过程
9、中，由于离子与残余气体分子的 碰撞等原因，离子俘获电子成中性原子，以原来的高速 度与离子一起运动。因为中性原子不带电，如果通过法 拉第电荷测量系统注入硅片，将会使实际注入剂量超出 设定剂量。所以为了保证注入剂量的正确，必须从注入 束中去除中性原子。方法是在X扫描板上加上固定的直流 偏压，带电的离子束将向负电板方向偏转。一般将根据 扫描板与法拉第筒的距离偏转角5-7。使中性束完全不 能进入法拉第电荷测量系统。 27 2. 防止沟道效应 对单晶材料的轴沟道和面沟道，由于散射截面小， 注入离子可以获得很深的穿透深度，称为沟道效应。为了 尽可能避免沟道效应，离子束在注入硅片时必须偏离沟道 方向约7。通
10、常，这种偏转是用倾斜硅片来实现。 沟道效应及避免方法 离子束 （100）Si 28 沟道效应示意 29 沟道临界角，即理论上会产生沟道效应的最大角度： 式中，E0 为注入能量，单位是keV；Zi，Zt分别是注入离 子和靶原子的核电荷数，d为与注入方向一致的靶单晶的 原子间距，单位为。 除了转动靶片，还可以用事先生长氧化层或用Si、F等 离子预非晶化的方法来消除沟道效应。对大直径Si片， 还用增大倾斜角的方法来保证中心和边缘都能满足大于 临界角。 沟道效应及避免方法 30 硅中常用杂质的临界角 上：（111） 下：（100） 31 3. 离子与衬底原子的相互作用 注入离子与衬底原子的相互作用，决
11、定了注入离子的分 布、衬底的损伤。 注入离子与靶原子的相互作用，主要有离子与电子的相 互作用，称为电子阻止和离子与核的相互作用，称为核阻 止。核阻止主要表现为库仑散射。 电子阻止在每单位长度上的能量损失可表示为能量梯度 ，其中 ke 是与离子和靶物质有关的比例常数： Zi和Zt分别是注入离子和靶原子的核电荷数。 32 库仑散射 注入离子与靶原子核的相互作用，主要表现为库仑散射 ，b 为碰撞参数定义为不发生散射时两原子核接近的最 小距离。 利用靶离子加外电子 模型处理库仑散射。 符合动量守恒、 能量守恒和角 动量守恒。 在质心坐标系中有： 33 注入离子的能量损失为： 可见，注入离子单次散射的能
12、量损失与入射能量 成正比，与散射角（离子质量和碰撞参数）有关 。 角动量守恒 动量守恒 能量守恒 库仑散射的能量损失 34 任何一次碰撞过程中的能量损失都是碰撞参数的敏感 函数，碰撞参数b越小，能量损失越大。能量损失也是离 子质量与靶原子质量之比的函数，比值越小，每次碰撞 损失的能量越大。另外，能量损失也是能量自身的函数 ，当入射离子能量很低时，碰撞一般不能破坏靶原子的 化学键，离子只能发生弹性碰撞，改变离子的运动方向 ，不会损失很多能量。 在同样能量下，靶原子质量越大，核阻止越大，靶原 子质量越小电子阻止越大。核阻止使离子能量损失的最 大值为： 35 各种杂质注入Si的电子阻止和核阻止 36
13、 当Se 和Sn已知，得到投影射程和标准偏差如下： 实际上关于电子阻止和核阻止的经典模型有LSS（ Linhard，Scharff，Schictt）理论给出，相关的投影射 程和标准偏差也用数值计算给出。该理论结果与实际测 量值十分吻合。通常可用查表得到。 4.平均投影射程及标准偏差 37 注入离子分布 离子注入衬底后与衬底原子碰撞，能量不断损失， 轨迹不断变化，但服从统计分布。作为注入离子分布 的一次近似，注入离子随深度的分布为： 式中，D为注入剂量，x为离表面的深度。 38 平均投影射程及标准偏差 深度x 杂 质 浓 度 N RP Np 事实上，注入离子分布的一级近似为典型的高斯分布。 平均
14、投影射程RP 注入离子的最可几射程，代表了 离子的平均注入深度， 称为投影射程。 在RP处浓度最高， 为NP。用RP 表 示投影射程的标 准偏差。从公式 可见， RP 实际上 是浓度为0.61NP的 分布曲线半宽度。 39 无定形靶中离子注入的高斯分布 40 离子注入的平均投影射程 41 Si中N型杂质注入的RP和RP 42 Si中P型杂质注入的RP和RP 43 Si中其它杂质注入的RP和RP 44 GaAs中N型杂质注入的RP和RP 45 GaAs中P型杂质注入的RP和RP 46 SiO2中离子的 RP和RP 47 AZ111光刻胶中离子的RP和RP 48 各种离子 注入Si和 SiO2中的
15、 投影射程 49 各种离子注 入Si中的标 准偏差 50 Si3N4中离 子注入的 投影射程 51 Si3N4中离 子注入的 标准偏差 52 能屏蔽注 入离子的 掩摸厚度 53 注入离子分布的高次矩 注入离子分布的高次矩有助于描述注入低浓度区的 分布特点。分布的第i次矩定义为： 1.一次矩是归一化剂量； 2.二次矩是剂量和RP2 的乘积； 3.三次矩表示了分布的非对称性，用偏斜度 表示， = m3/ RP3 ， 0 表示x RP侧的浓度增加。 B+ 注 入要用Pearson 型分布描述。 54 4. 四次矩与高斯峰值的畸 变有关，畸变用峭度 表示： = m4/ RP4 高斯分布的峭度为3， 峭
16、度越大，高斯曲线顶 部越平。 、 可用蒙特卡罗模 拟得到，也可测量实际 分布曲线拟合得出。 分布的高次矩 a 高斯分布 b 负偏斜度 c 大陡度 55 5. 注入损伤 离子注入衬底单晶与衬底原子作级联碰撞，产生大量 的位移原子，注入时产生的空位、填隙原子等缺陷称为 一次缺陷。在剂量达到一定数值后，衬底单晶非晶化， 形成无定型结构。使衬底完全非晶化的注入剂量称为阈 值剂量。不同衬底和不同的注入离子，在不同的能量、 剂量率和不同温度下有不同的非晶剂量。轻原子的大、 重原子的小；能量低大，能量高小；衬底温度低大，衬 底温度高小。当衬底温度高于固相外延温度时，可以一 直保持单晶。 56 几种常用杂质对
17、硅注入的临界剂量 57 在合适的后续退火后，非晶层可以用固相外延的方式重新 结晶。但在非晶层后的损伤区域，仍会留下一定的点缺陷或 其它一次性无法消除的缺陷。在退火时形成的缺陷为二次缺 陷，它主要为点缺陷团聚形成的扩展缺陷。所以，离子注入 后的缺陷，在退火后，主要分布在离子射程的尾部。Si的固 相外延温度在550C附近。 B注入产生的填隙原子浓度大于2e16/cm2时才产生二次缺 陷；P、Si 等的填隙原子浓度达到5e16/cm2产生二次缺陷， 而重离子由于非晶化剂量很小，不易产生二次缺陷。而轻离 子注入退火时产生的是孤立的二次缺陷，重离子能产生较大 的扩展缺陷，中等重量离子注入产生的填隙原子被
18、束缚在缺 陷群中，不能聚合成大的扩展缺陷。 58 离子注入损伤的RBS测量 阴影区算出的填隙硅原子浓度7e16/cm2是注入剂量的35倍 a 200keV，2E15 B+/cm2 b 未注入 59 退火和激活 退火的目的是激活掺杂原子和消除注入损伤。合适的退 火工艺可以将注入杂质激活，将二次缺陷降低到最小，避 免留下残余的扩展缺陷。常用的退火条件为：850C 1000C，3060分，N2气氛。 可以用高温快速退火来提高激活效率，防止杂质的深扩 散。例如用11001200C,10-30秒的退火可以较充分地激活 注入Si中的B、P、As。 60 注入硼 的激活 61 As注入Si的损伤分布 62
19、P注入Si中的退火激活 63 6. 浅结的离子注入制备 MOS器件的源漏结深随着器件沟道尺寸的减小必须降低。 P型浅结的制备相当困难。原因是： 1. B 的质量小，Rp和Rp大； 2. B注入的沟道效应大； 3. B 注入后的退火出现快速异常扩散，加大了结深。 制备P型浅结的常用方法有： 1. 低能B注入； 2. 分子离子注入：用BF2+替代B+注入； 3. Si预非晶注入后再注B+，降低沟道效应，结深降40； 4. 快速固相扩散； 5. 激光放电掺杂和等离子浸入掺杂。 64 65 7. 离子注入的工艺问题 1.遮挡效应 图形在园片倾斜或旋转角度注入时时产生的阴影区； 2.大尺寸效应 圆片尺寸
20、增大使注入角在中心和边缘不同 3.热效应 大束流注入时产生的圆片升温问题 4.颗粒遮蔽 任何表面颗粒沉积都会因遮蔽造成掺杂失效，甚至造 成器件失效 66 5. 沾污 包括重金属沾污和碳沾污，造成漏电和其它缺陷 6. 静电效应 在片上有大面积SiO2等介质时，注入使表面堆积静 电荷，电场将影响结深。 67 68 69 8. SOI 的埋层氧注入 Silicon On Insulater (SOI) 1. 注入元素 OSIMOX、N-SIMNI 2. SOI 形成原理 注入的O与Si在高温下合成SiO2埋层，表面在注入过程 中始终保持单晶，高温退火使O凝聚，消除埋层中的Si 岛和Si中的氧沉淀。
21、3. 注入条件 剂量： 1.8e18/cm2=0.6e18/cm2x3 退火温度： 13001350C， 6小时 气氛 Ar+1%O2 70 71 10. 理论模拟 可以用Trim 94 或 Suprem.3 软件模拟各种离 子注入硅或其它单质、化合物衬底的平均投影射 程、标准偏差、损伤分布等。 72 作业：P121 1，2，4，6 73 艮倀鯭丅隌零件螔鎓晷皑荮倀怠鯭诌鎂覑鄋豎鑎瑞牁舃醓覑脋诌一隌零件应兴杭丈匉敁豎禘鎂錋%4言鼐劋鴱揩恠上颌役蜏鮓羓褐躟诟抹貝攀怆灠豎馟鎂鑗埛務豎馟鎇鑗埛務赎鎂炒鉉颙 S牁丅融銓炒腉餀匀牁丄于一芺銓脖蹎N鎇鈖诪上于蜉隓鏨夀洀躽谐軝軝軽軮劼劼劼劼牁丄于舭钓頭膘謀蹎
22、鎇钘頭厨丆于船銓骚萲鯯預鶫蹎鎂餈讉拫蹎偎鎂鈢讬蹎偎鎇鉮鷀丄于穦蟋隓砻苈褀鲼劼蹎酎鎇銘=L!軯軯劜鲼劜牁七于徚螷隓膦牁七于芺鎓麔钓膞怀牁七于凁艆鮓垛脿倀牁七于凁蝆鮓垛脿倀丅傎蝥隓鐼莒劼上冎蝉隓鐁褐!謐谀黈鸐黈黈!輐黈默默黨麹輐麹贐黏劜鳬劜餐鳬劜鳬劜鳬!劜鳬劜鰐鳬劜鳬劼劼劼褐!劼訐劼劼!劼輀!劼蹎婑鎂抒鉸牁丄冎艨銓宒臇脀蹎桑鎇阋劜丆冎螰鎓葚黸!丆劎蜚隓葢麙劜上劎螛隓稾袑鸐鳞劜!龟劼丆劎馠螙隓萣麊骘鳮!三劎苒鮓慸禓藯蠐!丈劎蟒鮓慸禓藯拎蹎鎇鄿觿蹎乓鎇阍这劜蹎馟鎇鎖队蹎鎇鉤!牁丄咎蠌艌鎓刮腒蹎鎂驧朏抌牁七宎媏舁銓鮒脘謀鷍牁七宎芶鎓腀蠀瀀上庎蝳隓戟轮伀髭!骾髞劜鳟劜鰐鳟!牁七庎螆醓液腭礼 仪 培 训 什
23、么是仪容仪表、什么是礼节礼貌？ 仪容主要是指人的容貌，是仪表的重要组成部分。仪表仪 容是一个人的精神面貌、内在素质的外在表现。 仪表即人的外表，一般来说，它包括人的容貌、服饰、个 人卫生和姿态等方面。 礼节是人们在日常生活中表示尊敬、问候、祝颂、致谢、 慰问等意愿的必须遵循的惯用形式，是礼貌的具体表现形式 。 礼貌是人与人接触交往中，通过言谈、表情、姿势相互表 示谦虚、恭敬和友好的言行规范。 第一章 举止礼仪 美丽的外形胜于美丽的脸蛋， 美丽的举止胜于美丽的外形。 -爱默生 一、站姿（基本要求：挺拔） 站姿的基本要点 1、头正 平视前方，嘴微闭，收下颌，脖颈挺直，表情 自然，稍带微笑。 2、肩
24、平 两肩平正，稍微放松，稍向后下沉。 3、躯挺 挺胸收腹，腰部正直，臀部向内向上收紧。 4、腿并 两腿立直并拢，贴紧，脚跟靠拢，双脚呈45 到60夹角。 5、臂垂 两臂自然下垂，手指并拢，自然微屈。 男士站姿：稳健、大方 一般应双脚并拢，脚尖呈“V”字形，或平行开 立，大致与肩同宽。全身正直，双肩稍后展，抬 头挺胸，双臂自然下垂伸直，双手贴于大腿两侧 或右手握住左手或双手在身后交叉，左手握住右 手，贴于臀部。 男士标准站姿 女士站姿：优美、高雅 双腿并拢，挺胸抬头，收拢 下颌，双手自然下垂或于小 腹前相握。脚部：第一种： 脚跟并拢，脚尖分开约45 ，“V”字形；第二种：一 脚跟靠与另一脚内侧，
25、脚尖 略分开，“丁”字形。 训练： 两人一组，背靠背站立， 脚跟、腿肚、臀部、 双肩和后脑勺贴紧。 此练习可训练站立时 的挺拔感。（五分钟） 二、坐姿（端正） 案例：李华和张伟是同一所职校的应届生，二人在 专业技能上都是名列前茅。而当用人单位来学校面 试时，两人的结果却大相径庭。李华打扮适中，言 谈得体，但是一坐下来就会不自觉地翘起二郎腿， 给人一种放荡不羁的感觉。而张伟由于临时接到通 知，没有时间装扮自己，在和招聘人员解释后就开 始了面试。张伟坐下后，双腿微微合拢，双手放在 腿上，上身挺拔端正。如此良好的坐姿，给人一种 谦逊、严谨的印象，这也为张伟赢得了这宝贵的工 作机会。 1、落座面积占据
26、座位的1/2或2/3. 2、挺直上身，头部端正，目视前方，或面对交谈对象。 3、上身与大腿、大腿与小腿，均应当为直角。 4、将脚并拢，脚尖向前。女士膝盖并拢，男士可稍分开。 5、双手应掌心向下，男士可双手手心向下，平放于两条大 腿之上，女士应手心朝下，双手上下交叠，放于一条腿上。 也可以将手放于桌面之上或座位扶手上。 规范、优雅的坐姿： 女子八种优美坐姿 1、标准式 上身挺直，双肩平正，两臂自然弯曲，两手上下叠放在一条腿上，并靠近小 腹。两膝并拢，小腿垂直于地面，两脚保持小丁字步或小八字步。 2、前伸式 在标准坐姿的基础上，两小腿向前伸出一脚的距离，脚尖不要翘起。前身可 略向前倾，表示对对方的
27、尊敬。 3、前交叉式 在前伸式坐姿的基础上，右脚后缩，左脚交叉，两踝关节重叠，两脚尖着地 。 4、屈直式 右脚前伸，左小腿屈回，大腿靠紧，两脚前脚掌着地，并在一条直线上。 5、后点式 两小腿后屈，脚尖着地，双膝并拢。（这种坐姿容易给人腿短的感觉，一 般在前面无遮挡情况不宜采取。） 6、侧点式 两小腿向左斜出，两膝并拢，右脚跟靠拢左脚内侧，右脚掌着地，左脚尖 着地，头和身躯向左斜。注意大腿小腿要成90，小腿要充分伸直，尽量 显示小腿长度。 7、侧挂式 在侧点式基础上，左小腿后屈，脚绷直，脚掌内侧着地，右脚提起，用脚 面贴住左踝，膝和小腿并拢，上身右转。 8、重叠式（二郎腿或标准式架腿） 在标准式
28、坐姿的基础上，腿向前，一条腿提起，腿窝落在另一腿的膝关节 上边。要注意上边的腿向里收，贴住另一腿，脚尖向下收起。外观优美文 雅，大方自然，富有亲近感，还可以充分展示女子的风采和魅力。 男士六种优美坐姿 1、标准式 上身正直上挺，双肩正平，两手放在两腿或扶手上，双膝并拢，小腿 垂 直地落于地面，两脚自然分开成45度。 2、前伸式 在标准式的基础上，两小腿前伸一脚的长度，左脚向前半脚，脚尖不 要翘起。 3、前交叉式 小腿前伸，两脚踝部交叉。 4、屈直式 右小腿回屈，前脚掌着地，左脚前伸，双膝并拢。 5、斜身交叉式 两小腿交叉向左斜出，上体向右倾，双手自然放在大腿上。 6、重叠式 左腿叠在右腿膝上部
29、，左小腿内收、贴向右腿，脚尖自然地向下垂。 入座的姿势 1、注意顺序：优先尊长；身份相同，同时就座 2、讲究方位：左进左出 3、落座无声：不慌不忙，悄无声息 4、就座得法：背对座位约10CM，右脚后移半步，待膝 盖后侧接触座位边缘后，再轻轻坐下。着裙装的女士，应 先用双手拢平裙摆，再就座。 5、离座谨慎：不要突然起立 离座的要求 1、事先说明：用语言或动作向对方示意，随后再站 起身来。 2、注意先后：地位低于对方的，应该稍后离座。地 位高的，首先离座。身份相似，可以同时起身离座。 3、起身缓慢：动作轻缓 4、从左离开：将右脚向后撤一步，身体保持正直， 起身站立。 坐姿的禁忌 1、头部乱动 2、
30、上身不直 3、手部错位 4、腿部失态 5、腿部乱动 训练： 1、从椅子左后方向前走至椅子前10CM站立。 2、向后撤右脚，使右腿膝盖后侧轻触椅子边。 3、身体挺直，头正，目视前方，轻轻落座。 4、右腿向前收回，与左腿平行放好。 5、女士双手叠放，置于一腿之上；男士双手平放于两腿上。 6、离座时，将右腿向后撤一步，身体保持正直，起身站立。 7、向前收回右脚，站定后离开。 三、走姿 走姿的基本要点 1、头正：双目平视前方4米处，收颌 2、肩平：双臂自然摆动，摆幅30-40，两手自然弯 曲，在摆动中离开侧身不超过一拳的距离。 3、躯挺：上身挺直，收腹立腰，重心稍前倾3-5。 4、步位直：两脚尖略开，
31、脚跟先着地，走出的轨迹要在 一条直线上。男士保持两脚内侧宽约5CM的平行线，脚尖可 稍稍向外。 5、步幅适当：两脚落地的距离大约为一个脚长。 6、步速平稳：均匀，平稳，自然舒缓，显得成熟自信。 上身基本保持站立的标准 姿势，挺胸收腹，腰背笔 直;两臂以身体为中心，前 后自然摆。前摆约35度， 后摆约15度，手掌朝向体 内;起步时，身子稍向前倾 ，重心落前脚掌，膝盖伸 直;脚尖向正前方伸出，双 目平视，收颌，表情自然 平和。 走姿的禁忌 行走时要防止内外八字步， 低头驼背，摇晃肩膀， 双臂大甩手，扭腰摆臀， 左顾右盼，脚擦地面等不良姿态。 走姿训练 从容 平稳 直线 几种特例下的走姿要求 （一）
32、陪同引导 1、双方并排行走时，陪同引导人员应居于左侧，“尊贵的 位置”在右边；三人并行，“尊贵的位置”在中间； 2、双方单行行走时，要居于左前方约一米左右的位置。 3、陪同人员行走的速度要考虑到和对方相协调，不可以走得太 快或太慢，以对方为中心。每当经过拐角、楼梯或道路坎坷 、照明欠佳的地方，都要提醒 对方留意。同时有必要采取一 些特殊的体位。如请对方开始 行走时，要面向对方，稍微欠 身。在行进中和对方交谈或答 复提问时，把头部、上身转向 对方。 （二）上下楼梯 1、坚持右上右下原则。上下楼梯、自动扶梯的时候，都不应该 并排行走，而要从右侧上。这样一来，有急事的人，就可以从左 边的急行道通过。
33、 2、注意礼让别人。上下楼梯时，不要和别人抢行。出于礼貌， 可以请对方先走。当自己引导客人时，上下楼梯就要走在前面。 如果是陪客人上楼，尊者、妇女、 客人在前，陪同人员应该走在 客人的后面；如果是下楼， 陪同人员应该走在客人的前面， 尊者、妇女、客人在后。 （三）进出电梯 1、无人驾驶的电梯，陪同人员必须自己先进后出， 以方便操控电梯；有人驾驶的电梯，应当后进后出。 2、进出电梯时，应该侧身而行，免得碰撞别人。进 入电梯后，尽量站在里面。人多的话，下电梯前，应 该提前换到电梯门口。 （四）出入房门 进入或离开房间时，要求： 1、先通报。在出入房间时，特别是在进入房门前，一定要轻轻叩门、按 铃的
34、方式，向房内的人进行通报。贸然出入或者一声不吭，都显得冒失 无礼。 2、以手开关。出入房门，务必要用手来开门或关门。开关房门时，最好 是反手关门、反手开门，并且始终面向对方。用肘部顶、用膝盖拱、用 臀部撞、用脚尖踢、用脚跟蹬等方式关门都是不好的做法。 3、后入后出。和别人一起先后出入房门时，为了表示自己的礼貌，应当 自己后进门、后出门，而请对方先进门、先出门。 4、出入拉门。平时，特别是陪同引导别人时，还有义务在出入房门时替 对方拉门或是推门。当你引领一位受尊重的人进出房门时，应该是：手 拉门请对方先进，自己处于门后；手推门自己先进，处于门边，并做相 应的指引手势，这样可以为对方扶住门，以免发
35、生意外，也会显得彬彬 有礼。 四、蹲姿 基本蹲姿要点 1、下蹲拾物时，应自然、得体、大方，不遮遮掩掩。 2、下蹲时，两腿合力支撑身体，避免滑倒。 3、下蹲时，头，胸，膝关节在一个角度上，使蹲姿优美。 4、女士无论采用哪种蹲姿， 都要将腿靠紧，臀部向下。 优雅的蹲姿 1、交叉式蹲姿 在实际生活中常常会用到蹲姿，如集体合影前排需要蹲下时，女 士可采用交叉式蹲姿，下蹲时右脚在前，左脚在后，右小腿垂直 于地面，全脚着地。左膝由后面伸向右侧，左脚跟抬起，脚掌着 地。两腿靠紧，合力支撑身体。臀部向下，上身稍前倾。 2、高低式蹲姿 下蹲时左脚在前，右脚稍后，两腿靠紧向下蹲。左脚全脚着地， 小腿基本垂直于地面
36、，右脚脚跟提起，脚掌着地。右膝低于左膝 ，右膝内侧靠于左小腿内侧，形成左膝高右膝低的姿态，臀部向 下，基本上以右腿支撑身体。 蹲姿禁忌 、弯腰捡拾物品时，两腿叉开，臀部 向后撅起，是不雅观的姿态。两腿展 开平衡下蹲，其姿态也不优雅。 2、 下蹲时注意内衣“不可以露，不 可以透”。 3、绝对不可以双腿敞开而蹲，“卫 生间姿势”是最不得体的动作。 4、不要面对他人或背对他人而蹲。 下蹲在社交场合是不得已的动作，应 该避开他人的视线。 补充：蹲姿三要点：迅速、 美观、大方。若用右手捡物 品，可以先走到物品的左边 ，右脚向后退半步后再蹲下 来。脊背保持挺直，臀部一 定要蹲下来，避免弯腰翘臀 的姿势。男
37、士两腿间可留有 适当的缝隙，女士则要两腿 并紧，穿旗袍或短裙时需更 加留意，以免尴尬。 注意： 不要突然下蹲，速度切勿过快； 不要毫无遮掩，尤其是着裙装； 不要蹲着休息； 不要方位失当，最好与之侧身相向； 不要蹲在椅子上； 不能距人过近，保持一定距离； 五、手姿 一、基本的手姿 （一）垂放 最基本的手姿。两种：双手自然下垂，掌心向内， 叠放或相握于腹前；双手伸直下垂，掌心向内，分 别贴放于大腿两侧。 （二）背手 多见于站立、行走时，双臂放到身后，双手相握， 同时昂首挺胸。显示权威、镇定自己。 （三）持物 拿东西时动作自然，五指并拢，用力均匀。 （四）鼓掌 表示欢迎、祝贺、支持，多用于会议、演出
38、、比赛 或迎候嘉宾。 右手掌心向下，有节奏的拍击掌心向上的左掌。必 要时，起身站立。 （五）夸奖 表扬他人。伸出右手，翘起拇指，指尖向上，指腹 面对被称道者。 （六）指示 引导别人，指示方向的手势。 问：有人向你问路，怎么给别人指路？ 能不能用一根手指为他人指路？ 为他人指引时我们会运用到以下几种手势： 手势要点运用场合 直臂式手指并拢，掌伸直，屈肘从身前抬起至肩的高度，肘关节基 本伸直。 指示方向时 横摆式手指并拢，手掌自然伸直，手心侧向上，肘微弯曲，腕低于 肘。开始做手势应从腹前抬起，以肘为轴轻缓地向一旁摆出 ，到腰部并与与身体正面成45，头部和上身微向伸出手的 一侧倾斜，另一手自然下垂或
39、背在后面，目视对方，面带微 笑。 表示“请” 、“请进” 时 双臂横摆式将双手由前抬起到腹部再向两侧摆到身体的侧前方，这是面 向来宾。指向前进方向一侧的臂应抬高一些，伸直一些，另 一手稍低一些，曲一些。 若是站在来宾的侧面，则两手从体前抬起，同时向一侧摆动 ，两臂之间保持一定距离。 接待较多来 宾做“诸位 请”或批示 方向的手势 时 前摆式如果右手拿着东西或扶着门时，做右请的手势时。五指并拢 ，手掌伸直，由身体一侧由下向上抬起，以肩关节为轴，手 臂稍曲，到腰的高度再由身前右方摆去，距身体15厘米，不 超过躯干的位置。 一手拿着东 西，需要做 “请”的手 势时 斜摆式手要先从身体的一侧抬起，到高
40、于腰部后，再向下摆去，大 小臂成一斜线 请客人落座 时 直臂式 横摆式 前摆式 双臂横摆式 斜摆式 （七）递接物品的规范 1双手为宜：双手递物最佳。不方便双手并用时，也要采用右手。 以左手递物，通常被视为失礼之举。 2递于手中：递给他人的物品，以直接交到对方手中为好。不到万 不得已，最好不要将所递的物品放在别处。 3主动上前：若双方相距过远，递物者理当主动走近接物者。假如 自己坐着的话，还应尽量在递物时起身站立为好。 4方便接拿：在递物时，应为对方留出便于接取物品的地方，不要 让其感到接物时无从下手。将带有文字的物品递交他人时，还须使 之正面朝向对方。 5尖、刃内向：将带尖、带刃或其他易于伤人
41、的物品递于他人时， 切勿以尖、刃直指对方，应当使其朝向自己或是朝向他处。 6、接取物品时，主要应注意的是：应当目视对方，而不要只顾注视 物品，一定要用双手或右手，不宜单用左手。必要时，应当起身而 立，并主动走近对方。当对方递过物品时，再以手前去接取，切勿 急不可待地直接从对方手中抢取物品。 二、禁忌的手姿 1、易误解的手姿 如图：英美表示“OK”; 日本表示钱;拉美表示下流。 2、不卫生的手姿 搔头皮、掏耳朵、抠鼻孔、 剔牙齿、搓脚丫等，令人恶心，不当之举。 3、欠稳重的手姿 大庭广众之前，双手乱动、乱摸、乱举、咬指尖、折衣角、抬胳膊、抱 大腿、拢头发等，也是应当禁止的。 4、失敬于人的手姿
42、用手指指点他人，掌心向下挥动手臂，勾动食指招呼别人等。食指一般 不指别人，可以指自己。中国人说“我”的时候，习惯指自己的鼻子， 西方人习惯指自己的胸口。 六、微笑 案例一 纽约一家大酒店的人事主任曾经说过：“要是一个女孩子 经常发出可爱的微笑，那么，她就是小学程度我也乐聘用 ，要是一个哲学博士，老是摆个扑克牌的面孔，就是免费 来我们酒店当服务员，我也不用。” 案例二 1930年在美国经济萧条严重的时期，希尔顿负债50亿美元 。困难时希尔顿充满信心对员工说“目前正值酒靠债度日 时期，我决定强渡难关，我请各位记住，千万不可把愁云 挂在脸上，无论客人本身遭遇的困难如何，希尔顿的服务 员的微笑永远属于
43、客人的阳光。”（微笑征服客人） 微笑“四要”： 一要口眼鼻眉肌结合，做到真笑。发自内心的微笑 ，会自然调动人的五官，使眼睛略眯、眉毛上扬、 鼻翼张开、脸肌收拢、嘴角上翘。 二要神情结合，显出气质。笑的时候要精神饱满、 神采奕奕、亲切甜美。 三要声情并茂，相辅相成。只有声情并茂，你的热 情、诚意才能为人理解，并起到锦上添花的效果。 四要与仪表举止的美和谐一致，从外表上形成完美 统一的效果。 微笑的“四不要”： 一不要缺乏诚意、强装笑脸； 二不要露出笑容随即收起； 三不要仅为情绪左右而笑； 四不要把微笑只留给上级、朋友等少数人。 分辨真假微笑 蒙娜丽莎的微笑 练习微笑： 1、准备一面镜子，对镜观察自己，寻找和发现 自己最美的表情。 2、用一张纸挡住眼睛下面的部分，试着从你的 眼睛里看到微笑的表情，练习“眼中含笑”。 3、不好意思张开嘴，露出牙吗？拿一根筷子用 牙咬住，发“yi”的声音，看看自己是不是个 微笑的表情？ 法国人不会无缘无故地微笑； 俄罗斯人认为在公共场合向陌生人微笑是很 不正常的甚至
