1、 MOOC 光学薄膜与制备技术-中国矿业大学 中国大学慕课答案1.1 随堂测验1、问题：本课程所研究的薄膜是。选项：A、气体薄膜B、液体薄膜C、固体薄膜单体D、衬底上的固体薄膜正确答案:【衬底上的固体薄膜】2、问题：薄膜按形态可以分为哪些类型？选项：A、气体薄膜B、液体薄膜C、固体薄膜D、等离子体正确答案:【气体薄膜#液体薄膜#固体薄膜】3、问题：常见的固体薄膜有哪些类型？选项：A、气体薄膜B、固体薄膜单体C、液体薄膜D、衬底上的固体薄膜正确答案:【固体薄膜单体#衬底上的固体薄膜】4、问题：光学薄膜就是能够产生光的干涉效应的薄膜。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】1.2 随堂测验1、问题
2、：光学薄膜所具有的功能有哪些？选项：A、分光作用B、增透作用 C、光信息存储D、防伪作用正确答案:【分光作用#增透作用#光信息存储#防伪作用】2、问题：根据光谱相应的不同，光学薄膜可以分成哪些类型？选项：A、增透膜B、增反膜C、滤光片D、分光膜正确答案:【增透膜#增反膜#滤光片#分光膜】3、问题：薄膜光学研究的是光横穿过膜层传播的规律。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】4、问题：薄膜光学研究的是光在分层媒质中传播规律的学科选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】1.3 随堂测验1、问题：第一批减反膜是在 年制备出来的。选项：A、1650 年B、1817 年C、1801 年D、1873 年
3、正确答案:【1817 年】2、问题：对物理光学基础建立起到最初作用的是。选项：A、论电与磁的出版B、油扩散泵的出现C、杨氏双缝干涉的提出D、第一批减反膜的制成正确答案:【杨氏双缝干涉的提出】 3、问题：对薄膜的应用迅速拓展起到最初推动作用的是。选项：A、论电与磁的出版B、油扩散泵的出现C、杨氏双缝干涉的提出D、第一批减反膜的制成正确答案:【油扩散泵的出现】4、问题：与镀膜技术密切相关的产业有哪些？选项：A、投影显示B、舞台灯光C、幕墙玻璃D、光通信领域正确答案:【投影显示#舞台灯光#幕墙玻璃#光通信领域】5、问题：薄膜最早期的应用只局限于抗腐蚀和制造镜面。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确
4、】1.4 随堂测验1、问题：两束光产生干涉的条件是选项：A、频率相同B、振幅相同C、振动方向一致D、相位差恒定正确答案:【频率相同#振动方向一致#相位差恒定】2、问题：普通光源发光的特点是选项：A、独立性B、随机性C、间歇性D、相干性正确答案:【独立性#随机性#间歇性】3、问题：薄膜会对空间位置坐标进行光能的重新分配。选项： A、正确B、错误正确答案:【错误】4、问题：薄膜与厚膜的本质区别在于能否产生光的干涉现象。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】1.5 随堂测验1、问题：薄膜的基本假定认为光学薄膜是选项：A、各向同性的B、折射率均匀连续C、横向有限D、折射率在界面发生突变正确答案:【各
5、向同性的#折射率均匀连续#折射率在界面发生突变】2、问题：真实薄膜精确计算需要考虑的因素有选项：A、薄膜的各向异性B、光学常数的经时效应C、光学常数的色散D、薄膜的非均匀性正确答案:【薄膜的各向异性#光学常数的经时效应#光学常数的色散#薄膜的非均匀性】3、问题：薄膜表面的粗糙程度会影响光学薄膜的光学特性。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】4、问题：薄膜制备条件的不稳定不会对薄膜产生任何影响。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】1.6 随堂测验 1、问题：我们通常所说的薄膜厚度有选项：A、几何厚度B、光学厚度C、位相厚度D、质量厚度正确答案:【几何厚度#光学厚度#位相厚度#质量厚度】2
6、、问题：膜系的性能通常用反射光谱曲线或者透射光谱曲线来表示。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】3、问题：一个膜系可以只有一层膜。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】1.7 随堂测验1、问题：膜系的性能通常用反射光谱曲线或者透射光谱曲线来表示。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】2、问题：常见的膜系有周期性膜系和非周期性膜系。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】3、问题：薄膜系统也可以分为规整膜系和非规整膜系。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】第 1 章 单元作业 1 第 1 章 单元作业 2第 1 章 单元测验1、问题：对物理光学基础建立起到最初作用的是 。选项：A、论
7、电与磁的出版B、杨氏双缝干涉的提出C、油扩散泵的出现D、第一批减反膜的制成正确答案:【杨氏双缝干涉的提出】2、问题：第一批减反膜是在 年制备出来的。选项：A、1650 年B、1801 年C、1817 年D、1873 年正确答案:【1817 年】3、问题：根据光谱相应的不同，光学薄膜可以分成哪些类型？选项：A、增透膜B、增反膜C、滤光片D、分光膜正确答案:【增透膜#增反膜#滤光片#分光膜】4、问题：我们通常所说的薄膜厚度有选项：A、几何厚度B、光学厚度C、位相厚度D、质量厚度正确答案:【几何厚度#光学厚度#位相厚度#质量厚度】5、问题：光学薄膜就是能够产生光的干涉效应的薄膜。选项：A、正确B、错
8、误正确答案:【正确】 6、问题：薄膜光学研究的是光横穿过膜层传播的规律。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】7、问题：薄膜最早期的应用只局限于抗腐蚀和制造镜面。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】8、问题：薄膜会对空间位置坐标进行光能的重新分配。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】9、问题：一个膜系可以只有一层膜。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】2.1 随堂测验1、问题：麦克斯韦方程组中的每个方程所对应的电磁定理是选项：A、电场高斯定理B、磁场高斯定理C、法拉第电磁感应定理D、全电流定理正确答案:【电场高斯定理#磁场高斯定理#法拉第电磁感应定理#全电流定理】2、问题：麦克斯
9、韦方程组的积分形式只适用于有限大小的电磁场。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】3、问题：要确定某一给定点的电磁场必须采用麦克斯韦方程组的积分形式。选项： A、正确B、错误正确答案:【错误】4、问题：在处理介质对电磁场的影响时，必须考虑介质的微观结构。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】第 2 章 单元作业 1第 2 章 单元作业 2第 2 章 单元测验1、问题：在 p 偏振时，有效光学导纳为 。选项：A、NcosB、N/cosC、NsinD、N/sin正确答案:【N/cos】2、问题：在 s 偏振时，有效光学导纳为 。选项：A、NcosB、N/cosC、NsinD、N/sin正确答案
10、:【Ncos】3、问题：麦克斯韦方程组中的每个方程所对应的电磁定理是选项：A、电场高斯定理B、磁场高斯定理C、法拉第电磁感应定理D、全电流定理正确答案:【电场高斯定理#磁场高斯定理#法拉第电磁感应定理#全电流定理】4、问题：电磁场边界条件包含哪些？选项： A、Et1=Et2B、Hn1=Hn2C、Dt1=Dt2D、Bn1=Bn2正确答案:【Et1=Et2#Bn1=Bn2】5、问题：麦克斯韦方程组的积分形式只适用于有限大小的电磁场。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】6、问题：在处理介质对电磁场的影响时，必须考虑介质的微观结构。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】7、问题：在静磁场中界面两
11、侧磁感应矢量的法向分量连续。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】8、问题：电磁矢量都是时间、空间的函数，所以边界条件对任意时刻、界面上任意位置都成立选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】9、问题：介质的光学导纳是磁场强度与电场强度的比值选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】第 3 章 单元作业第 3 章 单元测验 1、问题：电磁波传播的方向和速度与电磁波能量的传播方向和速度是一致的。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】2、问题：电磁波所传递的能量与其振幅成正比。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】3、问题：任何一个复杂的薄膜系统，其反射率的计算问题都可以通过其等效界面对应的等效
12、光学导纳进行计算。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】4、问题：光学厚度相差为某半波长的整数倍的同一材料的单层介质膜，对同一波长有相同的反射率选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】5、问题：虚设层对膜系所有波段的有效光学导纳和反射率都没有任何影响。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】4.4 随堂测验1、问题：对推动技术光学发展来说。在所有的光学薄膜中 起着最重要的作用。选项：A、减反膜B、高反膜C、分光片D、滤光片正确答案:【减反膜】 2、问题：第一批减反膜是用 方法制备出来的。选项：A、电镀法B、真空蒸发法C、溅射镀膜法D、化学腐蚀法正确答案:【化学腐蚀法】3、问题：单层减反膜的主
13、要缺陷有 。选项：A、剩余反射率高B、可用材料少C、破坏色中心D、制备困难正确答案:【剩余反射率高#破坏色中心】4、问题：克服单层膜缺陷常用的方法有 。选项：A、增加折射率B、采用渐变膜C、改变膜厚D、制备多层膜正确答案:【采用渐变膜#制备多层膜】5、问题：多层减反膜中的虚设层通常起着平滑膜系反射特性的作用。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】4.5 随堂测验1、问题：金属膜中从紫外区到红外区都有很高反射率的材料是 。选项：A、金膜B、银膜C、铝膜D、镉膜正确答案:【铝膜】2、问题：在红外区反射率很高，常用来制作红外反射镜的是 。选项： A、金膜B、银膜C、铝膜D、镉膜正确答案:【金膜】3
14、、问题：金属膜的缺点是比较软，容易损坏。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】4、问题：金属膜表面通常都镀制一层保护膜，为了起到保护作用，保护膜材料的折射率越高越好。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】4.10 随堂测验1、问题：要想使镀制的单层薄膜的反射率增加，则膜层的折射率要比衬底的折射率 。选项：A、相同B、大C、小D、接近正确答案:【大】2、问题：光学厚度均为四分之一波长的介质高反射膜，其高反射带的宽度取决于。选项：A、膜层层数多少B、高、低折射率的比值C、中心波长位置D、反射率极限值正确答案:【高、低折射率的比值】3、问题：多层介质高反膜具有的反射特性有 。选项：A、反射率随层
15、数增加 B、高反射宽度有限C、反射带宽度与层数无关D、透射区的振荡与层数有关正确答案:【反射率随层数增加#高反射宽度有限#反射带宽度与层数无关#透射区的振荡与层数有关】4、问题：铝膜能够广泛应用的原因是 。选项：A、反射率高的波段宽B、容易镀制C、牢固稳定D、价格低廉正确答案:【反射率高的波段宽#牢固稳定】5、问题：/4-/4 双层减反膜系通常也称为 W 形膜。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】6、问题：在基片上交替镀制光学厚度为四分之一波长的高、低折射率材料，就一定能满足我们对薄膜光谱特性的需要。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】4.11 随堂测验1、问题：本课程讲述的滤光片主要
16、有 。选项：A、二向分色滤光片B、长波通滤光片C、反射滤光片D、短波通滤光片正确答案:【长波通滤光片#短波通滤光片】2、问题：选择一个满足要求的截止滤光片需要考虑的因素有 。选项：A、截止区波长范围B、截止区最小透过率C、透射区最大透过率 D、透射区波长范围正确答案:【截止区波长范围#透射区波长范围】3、问题：四分之一膜堆最外侧的两层用高折射率材料八分之一光学厚度可以减少长波侧的波纹选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】4、问题：在重叠多个四分之一膜系时，要把工作波长区吸收大的高反膜安排在入射光一侧。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】4.15 随堂测验1、问题：截止滤光片主要的类型有
17、。选项：A、吸收型滤光片B、薄膜干涉型滤光片C、彩色滤光片D、吸收干涉组合型滤光片正确答案:【吸收型滤光片#薄膜干涉型滤光片#吸收干涉组合型滤光片】2、问题：一个周期性的对称多层膜系在数学上可以等效为一个双层膜。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】3、问题：一个周期性对称膜系通带中的等效折射率是其基本周期等效折射率的 S倍（S 为周期数）。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】4、问题：截止滤光片通带波纹的产生是因为等效层的等效折射率与入射介质及基片匹配不好引起的。 选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】第 4 章 单元作业 1第 4 章 单元作业 2第 4 章 单元作业 3第 4 章
18、 单元测验1、问题：对推动技术光学发展来说。在所有的光学薄膜中 起着最重要的作用。选项：A、减反膜B、高反膜C、分光膜D、滤光片正确答案:【减反膜】2、问题：在玻璃表面上镀制一层薄膜达到减反射的目的应该镀制的材料是 。选项：A、硫化锌B、氟化镁C、单晶硅D、方解石正确答案:【氟化镁】3、问题：常用来防腐和镀制镜面的材料是 。选项：A、金膜B、铝膜C、银膜D、镉膜正确答案:【银膜】4、问题：表面反射对光学系统造成的严重后果有 。选项：A、光能损失B、像亮度降低C、分辨率下降 D、像的衬度降低正确答案:【光能损失#像亮度降低#分辨率下降#像的衬度降低】5、问题：选择一个满足要求的截止滤光片需要考虑
19、的因素有 。选项：A、透射区允许的最大透过率B、截止区允许的最大透过率C、截止区允许的最小透过率D、透射区允许的最小透过率正确答案:【截止区允许的最大透过率#透射区允许的最小透过率】6、问题：/4-/2 双层减反膜系通常也称为 v 形膜。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】7、问题：在重叠多个四分之一膜系时，要把工作波长区吸收大的高反膜安排在入射光一侧。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】8、问题：在基片上交替镀制光学厚度为四分之一波长的高、低折射率材料，就一定能满足我们对薄膜光谱特性的需要。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】9、问题：/4-/2 双层减反膜系通常也称为 W 形膜
20、。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】5.1 随堂测验1、问题：金属的热处理一般都在 区域进行的。选项：A、粗真空 B、低真空C、高真空D、超高真空正确答案:【低真空】2、问题：电容器生产中所采用的真空浸渍工艺所需要的真空度在 区域。选项：A、粗真空B、低真空C、高真空D、超高真空正确答案:【粗真空】3、问题：通常的真空蒸发镀膜所采用的真空区域是 。选项：A、粗真空B、低真空C、高真空D、超高真空正确答案:【高真空】4、问题：采用超高真空的用途通常是 。选项：A、进行蒸发镀膜B、进行溅射镀膜C、获得纯净固体表面D、得到纯净气体正确答案:【进行溅射镀膜#获得纯净固体表面#得到纯净气体】5、问
21、题：可以用来度量真空的参量有 。选项：A、真空度B、压强C、气体分子数密度D、气体平均自由程正确答案:【真空度#压强#气体分子数密度#气体平均自由程】5.3 随堂测验1、问题：决定一个真空泵是否满足真空度要求的性能指标是 。选项：A、真空室的大小 B、真空泵抽气空间大小C、真空泵的极限压强D、真空泵的抽气速率正确答案:【真空泵的极限压强】2、问题：决定一个真空泵效率的性能指标是 。选项：A、真空室的大小B、真空泵抽气空间大小C、真空泵的极限压强D、真空泵的抽气速率正确答案:【真空泵的抽气速率】3、问题：典型的真空系统包括 。选项：A、真空室B、真空泵C、真空计D、真空管正确答案:【真空室#真空
22、泵#真空计】4、问题：衡量一个真空系统是否满足要求的性能指标有 。选项：A、极限压强B、腔体大小C、抽气速率D、工作原理正确答案:【极限压强#抽气速率】5.4 随堂测验1、问题：真空计按照测量原理分为 。选项：A、压缩式真空计B、放电真空计C、绝对真空计D、相对真空计正确答案:【绝对真空计#相对真空计】2、问题：下列属于相对真空计的是 。选项：A、压缩式真空计 B、放电真空计C、热传导真空计D、电离真空计正确答案:【放电真空计#热传导真空计#电离真空计】3、问题：能够测出气体压强的真空计都是绝对真空计。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】4、问题：通过测量与压强有关的物理量，并与绝对真空计
23、比较后得到压强值的真空计就是相对真空计。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】随堂测验1、问题：真空蒸发镀膜一般不包括 过程。选项：A、加热蒸发过程B、分离过程C、源-基输运过程D、沉积过程正确答案:【分离过程】2、问题：真空蒸发镀膜时为了抑制或避免薄膜原材料与蒸发加热器发生化学反应，应该采用 。选项：A、反应蒸发法B、电子束加热法C、耐热陶瓷坩埚D、多源蒸发法正确答案:【耐热陶瓷坩埚】3、问题：真空蒸发镀膜时为了制造成分复杂或多层复合薄膜，应该采用 。选项：A、耐热陶瓷坩埚B、电子束加热法C、多源蒸发法 D、反应蒸发法正确答案:【多源蒸发法】随堂测验1、问题：不能采用电阻加热法进行镀膜的是
24、 。选项：A、金膜B、铝膜C、镉膜D、钨膜正确答案:【钨膜】2、问题：在真空蒸发镀膜过程中，为了制备出满足要求的薄膜，需要确定的参数有 。选项：A、真空室的腔体大小B、真空室的真空度C、真空室的形状D、蒸发温度正确答案:【真空室的真空度#蒸发温度】3、问题：下列属于物理气相沉积薄膜的方法有 。选项：A、真空蒸发镀膜B、溅射镀膜C、电镀D、离子镀正确答案:【真空蒸发镀膜#溅射镀膜#离子镀】4、问题：物质的饱和蒸气压随温度的上升而减小。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】随堂测验1、问题：在溅射镀膜过程中，靶材通常是放在 区进行的。选项：A、阿斯顿暗区B、阴极辉光区 C、负辉光区D、克鲁克斯暗
25、区正确答案:【负辉光区】2、问题：影响溅射率的因素有 。选项：A、靶材料B、入射离子能量C、入射离子种类D、入射离子入射角正确答案:【靶材料#入射离子能量#入射离子种类#入射离子入射角】3、问题：面心立方结构靶材的溅射率比六方晶格结构靶材的溅射率低。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】4、问题：满壳层元素具有最小的溅射率。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】随堂测验1、问题：在溅射镀膜过程中，靶材通常是放在 区进行的。选项：A、阿斯顿暗区B、阴极辉光区C、负辉光区D、克鲁克斯暗区正确答案:【负辉光区】2、问题：下面哪一种溅射方式的靶材可以是绝缘材料 。选项：A、二级溅射B、射频溅射C、
26、磁控溅射D、对靶溅射正确答案:【射频溅射】 3、问题：描述溅射镀膜特性的物理量有 。选项：A、溅射阈值B、溅射产额C、溅射原子的能量D、溅射原子的方向正确答案:【溅射阈值#溅射产额#溅射原子的能量#溅射原子的方向】4、问题：用单晶材料为靶材进行溅射镀膜时，溅射出来的原子基本上遵循余弦规则。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】随堂测验1、问题：在进行膜层厚度的分布计算时，我们往往认为 。选项：A、蒸气分子无碰撞B、到达基片全凝结C、蒸发特性不改变D、残余气体无影响正确答案:【蒸气分子无碰撞#到达基片全凝结#蒸发特性不改变#残余气体无影响】2、问题：常用的膜厚监控方法有 。选项：A、极值法B、
27、石英晶体振荡法C、触针法D、表面法正确答案:【极值法#石英晶体振荡法#触针法】3、问题：极值法测得的膜厚是质量厚度。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】4、问题：采用小平面蒸发源蒸发镀膜时要想在球面夹具上得到均匀的薄膜，应该把小平面蒸发源放在球面上。选项： A、正确B、错误正确答案:【正确】第 5 章 单元作业 1第 5 章 单元作业 2第 5 章 单元作业 3随堂测验1、问题：薄膜的形成过程一般包含 。选项：A、凝结过程B、核形成过程C、岛的形成过程D、岛的结合与生长过程正确答案:【凝结过程#核形成过程#岛的形成过程#岛的结合与生长过程】2、问题：热力学表面能理论和原子聚集体理论的相同点
28、包括 。选项：A、基本概念B、速率公式形式C、采用的能量D、适用的范围正确答案:【基本概念#速率公式形式】3、问题：薄膜形成过程中，气相原子或分子到达基板表面上首先发生的是化学吸附选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】4、问题：固体表面与体内在晶体结构上的重大差异是固体表面具有许多不饱和键。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】 随堂测验1、问题：薄膜的生长模式一般包含。选项：A、核生长型B、层生长型C、层核生长型D、核层生长型正确答案:【核生长型#层生长型#层核生长型】2、问题：电子显微镜和理论分析表明，核生长型薄膜的生长过程分为阶段。选项：A、小岛阶段B、结合阶段C、沟道阶段D、连续薄
29、膜阶段正确答案:【小岛阶段#结合阶段#沟道阶段#连续薄膜阶段】3、问题：层生长型生长方式发生的主要原因是蒸发原子间的结合能大于基片原子与蒸发原子间的结合能。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】4、问题：在基体和薄膜原子间相互作用特别强的情况下容易发生核生长型。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】随堂测验1、问题：根据研究对象的不同薄膜的结构分为。选项：A、组织结构B、表面结构C、晶体结构D、组成结构正确答案:【组织结构#表面结构#晶体结构】 2、问题：形成无定形薄膜的主要方法是。选项：A、降低基体温度B、引入反应气体C、提高基体温度D、引入杂质正确答案:【降低基体温度#引入反应气体#引
30、入杂质】3、问题：无定形结构的显著特点是进程有序，远程无序。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】4、问题：形成无定形薄膜的条件就是降低吸附原子的表面扩散速率。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】随堂测验1、问题：位错的基本类型有 。选项：A、刃位错B、螺位错C、混合位错D、正位错正确答案:【刃位错#螺位错#混合位错】2、问题：影响晶粒尺寸的因素有 。选项：A、薄膜厚度B、基板温度C、退火温度D、沉积速率正确答案:【薄膜厚度#基板温度#退火温度#沉积速率】3、问题：绝大多数位错是在沟道和空洞阶段产生的。选项：A、正确 B、错误正确答案:【正确】第 6 章 单元作业 1第 6 章 单元作业
31、 2第 6 章 单元测验1、问题：气相原子或分子到达基片表面可能会发生以下现象 。选项：A、反射B、吸附C、重蒸发D、二次蒸发正确答案:【反射#吸附#重蒸发#二次蒸发】2、问题：影响晶粒尺寸的因素有 。选项：A、薄膜厚度B、基板温度C、退火温度D、沉积速率正确答案:【薄膜厚度#基板温度#退火温度#沉积速率】3、问题：面缺陷常见的典型构型有 。选项：A、晶界B、层错C、孪晶面D、表面正确答案:【晶界#层错#孪晶面#表面】4、问题：电子显微镜和理论分析表明，核生长型薄膜的生长过程分为阶段。选项：A、小岛阶段B、结合阶段C、沟道阶段D、连续薄膜阶段正确答案:【小岛阶段#结合阶段#沟道阶段#连续薄膜阶
32、段】 5、问题：层生长型生长方式发生的主要原因是基片原子与蒸发原子间的结合能接近于蒸发原子间的结合能。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】6、问题：核生长型生长方式发生的主要原因是蒸发原子间的结合能大于基片原子与蒸发原子间的结合能。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】7、问题：我们可以使用电子显微镜来直接观察和研究点缺陷。选项：A、正确B、错误正确答案:【错误】8、问题：绝大多数位错是在沟道和空洞阶段产生的。选项：A、正确B、错误正确答案:【正确】2021-2022-2 光学薄膜与制备技术在线期末考试卷1、问题：本课程所研究的薄膜是 。选项：A、气体薄膜B、液体薄膜C、固体薄膜单体D、
33、衬底上的固体薄膜正确答案:【衬底上的固体薄膜】2、问题：对物理光学基础建立起到最初作用的是 。选项：A、论电与磁的出版B、杨氏双缝干涉的提出C、油扩散泵的出现 D、第一批减反膜的制成正确答案:【杨氏双缝干涉的提出】3、问题：对薄膜的应用迅速拓展起到最初推动作用的是。选项：A、论电与磁的出版B、杨氏双缝干涉的提出C、油扩散泵的出现D、第一批减反膜的制成正确答案:【油扩散泵的出现】4、问题：第一批减反膜是在 年制备出来的。选项：A、1650 年B、1801 年C、1817 年D、1873 年正确答案:【1817 年】5、问题：在 p 偏振时，有效光学导纳为 。选项：A、NcosB、N/cosC、N
34、sinD、N/sin正确答案:【N/cos】6、问题：在 s 偏振时，有效光学导纳为 。选项：A、NcosB、N/cosC、NsinD、N/sin正确答案:【Ncos】7、问题：对推动技术光学发展来说。在所有的光学薄膜中 起着最重要的作用。选项：A、减反膜B、高反膜C、分光膜D、滤光片正确答案:【减反膜】 8、问题：第一批减反膜是用 方法制备出来的。选项：A、真空蒸发法B、溅射镀膜法C、化学腐蚀法D、电镀法正确答案:【化学腐蚀法】9、问题：在玻璃表面上镀制一层薄膜达到减反射的目的应该镀制的材料是 。选项：A、硫化锌B、氟化镁C、单晶硅D、方解石正确答案:【氟化镁】10、问题：金属膜中从紫外区到
35、红外区都有很高反射率的材料是 。选项：A、金膜B、铝膜C、银膜D、镉膜正确答案:【铝膜】11、问题：常用来防腐和镀制镜面的材料是 。选项：A、金膜B、铝膜C、银膜D、镉膜正确答案:【银膜】12、问题：在红外区反射率很高，常用来制作红外反射镜的是 。选项：A、金膜B、铝膜C、银膜D、镉膜正确答案:【金膜】13、问题：要想使镀制的单层薄膜的反射率增加，则膜层的折射率要比衬底的折射率 。 选项：A、小B、相等C、接近D、大正确答案:【大】14、问题：要想使镀制的单层薄膜起到增透作用，则膜层的折射率要比衬底的折射率 。选项：A、小B、相等C、接近D、大正确答案:【小】15、问题：光学厚度均为四分之一波
36、长的介质高反射膜，其高反射带的宽度取决于。选项：A、膜层层数多少B、高、低折射率比值C、中心波长位置D、反射率极限值正确答案:【高、低折射率比值】16、问题：电容器生产中所采用的真空浸渍工艺所需要的真空度在 区域。选项：A、低真空B、粗真空C、高真空D、超高真空正确答案:【粗真空】17、问题：金属的热处理一般都在 区域进行的。选项：A、低真空B、粗真空C、高真空D、超高真空正确答案:【低真空】 18、问题：在 区域气体的热传导和内摩擦与压强无关。选项：A、低真空B、粗真空C、高真空D、超高真空正确答案:【高真空】19、问题：通常的真空蒸发镀膜所采用的真空区域是 。选项：A、低真空B、粗真空C、
37、高真空D、超高真空正确答案:【高真空】20、问题：通常的溅射镀膜所采用的真空区域是 。选项：A、低真空B、粗真空C、高真空D、超高真空正确答案:【高真空】21、问题：采用低真空的主要目的是 。选项：A、得到纯净气体B、获得纯净固体表面C、改变气体空间的性质D、获得压力差正确答案:【获得压力差】22、问题：决定一个真空泵是否满足真空度要求的性能指标是 。选项：A、真空室的大小B、真空泵抽气空间大小C、真空泵的极限压强D、真空泵的抽气速率正确答案:【真空泵的极限压强】23、问题：决定一个真空泵效率的性能指标是 。选项： A、真空室的大小B、真空泵抽气空间大小C、真空泵的极限压强D、真空泵的抽气速率
38、正确答案:【真空泵的抽气速率】24、问题：真空蒸发镀膜时为了蒸发低蒸气压物质，应该采用 。选项：A、耐热陶瓷坩埚B、电子束加热法C、多源蒸发法D、反应蒸发法正确答案:【电子束加热法】25、问题：真空蒸发镀膜时为了抑制或避免薄膜原材料与蒸发加热器发生化学反应，应该采用 。选项：A、耐热陶瓷坩埚B、电子束加热法C、多源蒸发法D、反应蒸发法正确答案:【耐热陶瓷坩埚】26、问题：真空蒸发镀膜时为了制造成分复杂或多层复合薄膜，应该采用 。选项：A、耐热陶瓷坩埚B、电子束加热法C、多源蒸发法D、反应蒸发法正确答案:【多源蒸发法】27、问题：真空蒸发镀膜时为了制备化合物薄膜或抑制薄膜成分对原材料的偏离，应该
39、采用 。选项：A、耐热陶瓷坩埚B、电子束加热法C、多源蒸发法D、反应蒸发法正确答案:【反应蒸发法】28、问题：不能采用电阻加热法进行镀膜的是 。选项： A、铝膜B、金膜C、镉膜D、钨膜正确答案:【钨膜】29、问题：电容器生产中所采用的真空浸渍工艺所需要的真空度在 区域。选项：A、低真空B、粗真空C、高真空D、超高真空正确答案:【粗真空】30、问题：金属的热处理一般都在 区域进行的。选项：A、低真空B、粗真空C、高真空D、超高真空正确答案:【低真空】31、问题：在 区域气体的热传导和内摩擦与压强无关。选项：A、低真空B、粗真空C、高真空D、超高真空正确答案:【高真空】32、问题：通常的真空蒸发镀
40、膜所采用的真空区域是 。选项：A、低真空B、粗真空C、高真空D、超高真空正确答案:【高真空】33、问题：通常的溅射镀膜所采用的真空区域是 。选项：A、低真空B、粗真空 C、高真空D、超高真空正确答案:【高真空】34、问题：采用低真空的主要目的是 。选项：A、得到纯净气体B、获得纯净固体表面C、改变气体空间的性质D、获得压力差正确答案:【获得压力差】35、问题：决定一个真空泵是否满足真空度要求的性能指标是 。选项：A、真空室的大小B、真空泵抽气空间大小C、真空泵的极限压强D、真空泵的抽气速率正确答案:【真空泵的极限压强】36、问题：决定一个真空泵效率的性能指标是 。选项：A、真空室的大小B、真空泵抽气空间大小C、真空泵的极限压强D、真空泵的抽气速率正确答案:【真空泵的抽气速率】37、问题：真空蒸发镀膜时为了蒸发低蒸气压物质，应该采用 。选项：A、耐热陶瓷坩埚B、电子束加热法C、多源蒸发法D、反应蒸发法正确答案:【电子束加热法】38、问题：真空蒸发镀膜时为了抑制或避免薄膜原材料与蒸发加热器发生化学反应，应该采用 。选项：A、耐热陶瓷坩埚B、电子束加热法C、多源蒸发法 D、反应蒸发法正确答案:【耐热陶瓷坩埚】39、问题：真空蒸发镀膜时为了制造成分复杂或多层复合薄膜，应该采用 。选项：A、耐热陶瓷坩埚B、电子束加热法C、多源蒸发法D、
