1、代表烃基）（1）的反应类型是_。（2）的化学方程式为_。（3）PMMA单体的官能团名称是_、_。（4）F的核磁共振氢谱显示只有一组峰，的化学方程式为_。（5）G的结构简式为_。（6）下列说法正确的是_（填字母序号）。 a为酯化反应bB和D互为同系物 cD的沸点比同碳原子数的烷烃高d. 1 mol 与足量NaOH溶液反应时，最多消耗4 mol NaOH（7）J的某种同分异构体与J具有相同官能团，且为顺式结构，其结构简式是_。（8）写出由PET单体制备PET聚酯并生成B的化学方程式_。26（12分）高纯晶体硅是信息技术的关键材料。（1）硅元素位于周期表的_周期_族，在周期表的以下区域中，可以找到类
2、似硅的半导体材料的是_（填字母序号）。a. 过渡元素区域 b. 金属和非金属元素的分界线附近c. 含有氟、氯、硫、磷等元素的区域（2）工业上用石英砂和焦炭可制得粗硅。已知： 请将以下反应的热化学方程式补充完整：SiO2(s) + 2C(s) = Si(s) + 2CO(g) H = _（3）粗硅经系列反应可生成硅烷（SiH4），硅烷分解生成高纯硅。已知硅烷的分解温度远低于甲烷，用原子结构解释其原因：_，Si元素的非金属性弱于C元素，硅烷的热稳定性弱于甲烷。（4）将粗硅转化成三氯氢硅（SiHCl3），进一步反应也可制得高纯硅。SiHCl3中含有的SiCl4、AsCl3等杂质对晶体硅的质量有影响。
3、根据下表数据，可用_ 方法提纯SiHCl3。物质SiHCl3SiCl4AsCl3沸点/32.057.5131.6一定条件用SiHCl3制备高纯硅的反应为 SiHCl3 (g) + H2(g) Si(s) + 3HCl(g)， 不同温度下，SiHCl3的平衡转化率随反应物的投料比（反应初始时，各反应物的物质的量之比）的变化关系如右图所示。下列说法正确的是_（填字母序号）。n(SiHCl3)a. 该反应的平衡常数随温度升高而增大n(H2)b. 横坐标表示的投料比应该是c. 实际生产中为提高SiHCl3的利用率，应适当升高温度27（14分）SO2、NO是大气污染物。吸收SO2 和NO，获得Na2S2
4、O4和NH4NO3产品的流程图如下（Ce为铈元素）：（1）装置中生成HSO3的离子方程式为 。（2）含硫各微粒（H2SO3、HSO3和SO32）存在于SO2与NaOH溶液反应后的溶液中，它们的物质的量分数X(i)与溶液pH 的关系如右图所示。下列说法正确的是 （填字母序号）。apH=8时，溶液中c(HSO3) c(SO32) bpH=7时，溶液中c(Na+) =c(HSO3)+c(SO32) c为获得尽可能纯的NaHSO3，可将溶液的pH控制在45左右向pH=5的NaHSO3溶液中滴加一定浓度的CaCl2溶液，溶液中出现浑浊，pH降为2，用化学平衡移动原理解释溶液pH降低的原因： 。（3）装置
5、中，酸性条件下，NO被Ce4+氧化的产物主要是NO3、NO2，写出生成NO3的离子方程式 。（4）装置的作用之一是再生Ce4+，其原理如下图所示。 生成Ce4+的电极反应式为 。 生成Ce4+从电解槽的 （填字母序号）口流出。（5）已知进入装置的溶液中，NO2的浓度为a gL-1，要使1 m3该溶液中的NO2完全转化为NH4NO3，需至少向装置中通入标准状况下的O2 L。（用含a代数式表示，计算结果保留整数）28（16分）甲同学进行Fe2+还原性的实验，针对异常现象进行探究。步骤一：制取FeCl2溶液。向0.1 molL-1 FeCl3溶液中加足量铁粉振荡，静置后取上层清液，测得pHu祒蜀济搀稀伀伀一倀夀嘀瘀堀渀最爀嘀洀渀樀瀀最一欀匀眀椀琀欀愀渀礀娀攀眀洀挀渀猀夀夀戀吀渀昀搀挀搀昀搀搀挀搀愀戀阀洀gn处戀P珍爱生命善水无情防溺水主题班会PPT模板下载.pptx珍爱生命善水无情防溺水主题班会PPT模板下载.pptx2021-3247ab19a05-a6ff-493f-a234-d02ee2d37679/M0g5d70wzHx/zSFrxJKTEmyPt/NB9Unq9wlkA2zwnBDpvAn1RvEew=珍爱,生命,无情,溺水,主题,班会,PPT,模板,下载https:/
